- 品名： 貝意克大口徑動態(tài)plasma輔助法卷對卷式石墨烯制備設備
- 型號： PECVD-150 卷對卷
- 產(chǎn)品詳情
- 規(guī)格參數(shù)
該設備為我司研發(fā)用于材料連續(xù)生長的專用設備，此款設備是快速冷卻卷對卷等離子體增強CVD連續(xù)生長爐，它由高溫生長腔體，質(zhì)量流量計氣路系統(tǒng)，真空機組，RF射頻電源模塊，石英管，冷卻裝置，收放卷的密封裝置，自動化控制系統(tǒng)組成，兩端分別安裝有進料進氣真空腔室和出料排氣真空腔室（即收放卷的密封裝置），收放密封裝置內(nèi)分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現(xiàn)有技術(shù)具有快速冷卻、連續(xù)生長的優(yōu)點。
1.加熱系統(tǒng)
**溫度 | 1200℃ |
使用溫度 | ≤1100℃ |
爐管尺寸 | Φ150mm（爐管直徑可根據(jù)實際需要定制。） |
爐膛材料 | 氧化鋁、高溫纖維制品 |
熱電偶類型 | K型熱電偶 |
控溫精度 | ±1℃ |
控溫方式 | 30段可編程控溫，PID參數(shù)自整定，操作界面為7”工控電腦，內(nèi)置PLC控制程序。 |
加熱長度 | 200+200+200mm |
加熱原件 | 電阻絲 |
供電電源 | 單相，220V，50Hz |
2、PE系統(tǒng)
功率輸出范圍 | 0W~1000W |
**反射功率 | 200W |
射頻輸出接口 | 50 Ω, N-type, female |
功率穩(wěn)定度 | ≤5W |
諧波分量 | ≤-50dbc |
供電電壓 | 單相交流（187V-253V） 頻率50/60HZ |
整機效率 | >=70% |
功率因素 | >=90% |
冷卻方式 | 強制風冷 |
3、三路質(zhì)子流量控制系統(tǒng)
連接頭類型 | 雙卡套不銹鋼接頭 |
標準量程（N2) | 200sccm，500sccm、1000sccm（可根據(jù)用戶要求定制） |
準確度 | ±1.5%F.S |
線性 | ±1%F.S |
重復精度 | ±0.2%F.S |
響應時間 | 氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec |
工作壓差范圍 | 0.1～0.5 MPa |
**壓力 | 3MPa |
接口 | Φ6,1/4'' |
顯示 | 4位數(shù)字顯示 |
工作環(huán)境溫度 | 5~45高純氣體 |
壓力真空表 | －0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格 |
截止閥 | Φ6 |
內(nèi)外雙拋不銹鋼管 | Φ6 |
4、低真空機組
空氣相對濕度 | ≤85% |
工作環(huán)境 | 5℃～40℃ |
工作電電壓 | 380V |
抽氣速率 | 32m3/h |
極限真空 | 5X10-1Pa（空載冷態(tài)） |
工作壓力范圍 | 1.01325X105～1.33X10-2Pa |
進氣口口徑 | KF40 |
排氣口口徑 | KF40 |
連接方式 | 采用波紋管，手動擋板閥與波紋管相連 |
